半導體產業四大核心設備——光刻機、離子注入機、刻蝕機、薄膜沉積機，這其中光刻機是最經常被人提及的，原因很簡單，因為光刻機是最難的。

楊東升也是正式涉足光刻機領域後，才知道這一塊有多難。

如果是追著外國人的屁股研究的話，他們永遠別想趕上別人，而且永遠也別想盈利，他們無論做出何種等級的設備，西方國家馬上就會解除對同等設備的禁運，一點市場也別想拿到。

得益於楊東升的先知先覺，東升半導體決定直接上馬極紫外線光刻相關技術。

楊東升敢這麽做，是因為光刻機不用先做出第一代設備，才能做第二代設備。

光刻機三大核心部件——光源、鏡頭、工作台。

其中的關鍵光源技術，深紫外線使用的是準分子激光，跟下一代極紫外線光源相互的關聯很少！

而且準分子激光技術應用很廣泛，此項技術不止美國一家掌握，想繞過美國相對簡單，相比之下極紫外線光源技術就比較妖孽了。

後世阿斯麥的極紫外線光刻機，使用的光源是采用激光持續轟擊錫滴。

由於極紫外線隻占錫滴發出的光很少一部分，大約隻有百分之幾，因此要使用足夠強的激光轟擊錫滴，才能發出足夠強的光——至少得是3萬瓦以上，而且還得持續不停的輸出。

大功率的激光，持續不斷的準確命中錫滴，每一項都是要命的技術。

在鏡頭上，極紫外線也與深紫外線有很大不同，極紫外線非常容易被吸收，深紫外線使用的透鏡式鏡頭已經不能使用了，因為鏡頭會直接把極紫外線光線吸收掉，因此使用反射式鏡頭。

由於極紫外線的波長隻有十幾個納米，深紫外線使用的納米極精度，人工打磨鏡頭的技術也不能用了。

極紫外線用的反射式鏡頭，精度必須達到皮米級。

而且由於反射式鏡頭是一個不規則的橢球體——光源位於橢球體其中一個圓心，使用人工打磨，已經不可能。

必須要用等離子自動拋光設備，這東西中國沒有，國外也買不來，隻能自己造。

鏡頭上還要鍍膜，把極紫外光以外的其他光線吸收掉。

這種規格的鍍膜機，也買不來，楊東升也得自己造。

這些還不算完，由於極紫外線非常容易被吸收，即便空氣也會吸收極紫外線，所以整個工作環境必須保持高度真空。

光刻機內部必須先使用普通真空泵先吸一遍，再用分子真空泵抽一遍，這還不夠，必須還得用吸附式方法，再抽一遍。

楊東升敢把還在研製中的技術，拿給他們看的原因就是光刻機的整體構造，其實沒什麽秘密可言，考驗的就是實打實的工業實力。

這就是最討厭的地方！

中國進口了上千台航空發動機，但是對自身航空發動機技術的提升，幾乎沒有任何作用。

荷蘭阿斯麥的極紫外線光刻機使用的是美國的光源，德國的鏡頭，瑞典的軸承，法國的閥件……可以說集合了西方所有發達國家先進技術於一身。

極紫外線光刻機，中國確實做不出來，但是美國人獨自也做不出來。

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