第三百九十四章 與世界為敵(1 / 2)

《半導體行業的革新產品出現》

《阿斯麥公司率先研發出EUV光刻機》

《晶片工藝製程或將提升十倍》

《晶片工藝已將達到物理極限》

在依然還有著『魔力』『外星生物』這些熱點的時候,阿斯麥的EUV光刻機在背後一群資本的運作下,立刻就登上了全球熱點。【,無錯章節閱讀】

本來正常來說,一件商品的更新疊代都是有跡可循的,或者說會有著技術儲備。

比如明明EUV光刻機是重新的新開賽道,和以前的DUV光刻機關係不大,但在平行世界這也硬是等到了晶片達到了DUV光刻機極限的7n瓶頸後才拿出來的。

但在這裡,因為安布雷拉DUV光刻機帶來的壓力,還有人工智慧以及量子計算+超算的模式前景擺在這裡。

為了重新爭奪這尖端利潤,為了更美好的前景。

在如今最頂級的晶片工藝製程還是14n的時候,阿斯麥公司就端出了他們的EUV光刻機。

而且因為安布雷拉對鏡片領域的影響加持,還有其他各方麵技術帶來的競爭感。

阿斯麥這次提前拿出的EUV光刻機比原本計劃的各項技術參數,還要更加優秀!

某積電、四星、英特爾等晶圓廠都已經到貨,並開始組裝調試!

顯然阿斯麥的EUV光刻機並不是說剛剛才造出來的,是已經開始供貨讓他們加班加點的完成組裝後才開始官宣的。

為的就是一步到位,為的就是減少給競爭對手的反應時間!

EUV光刻機比DUV要大得多,重量180噸,甚至連運輸都需要專門的車輛,組裝起來也相當麻煩。

如果不是提前就已經為這些合作晶圓廠的工作人員進行了培訓,從頭開始的話安裝調試個大半年都是相當正常的。

而現在,在安布雷拉那邊的壓力下,不管是阿斯麥還是各大晶圓廠都拿出了自己的最大潛力,加班加點的全都聯動了起來。

在各路資本推波助瀾的炒作下,配合著這次對於安布雷拉新增的多項製裁,也一下讓很多人多緩過了神來。

這一次,恐怕針對的就是安布雷拉!

「好大的手筆!」

「之前覺得世界公司已經很冤了,但對比一下針對安布雷拉的才可怕!」

「世界公司隻是順帶被波及的,主要目標都放在安布雷拉這的,實在是他們身上的利益太大了。」

「阿斯麥好陰險啊,一直捂著不放,差不多一錘定音的時候就出來了。」

「……」

伴隨著網絡上的討論發酵,等到熱度達到峰值的時候,阿斯麥這邊也進行了一個直播節目。

同時有著某積電、四星、英特爾等諸多半導體工程師,還有一些晶片設計廠、封裝廠等等的專業人士。

站在一處廠房外,所有人臉上都是帶著笑容。

直播鏡頭前,由阿斯麥的工程師率先開口進行了介紹

「恐怕很多人都沒想到,我們會直接放棄原本成熟的DUV技術,直接從頭開始的研發EUV光刻機。」

一邊說,他們還圍繞著廠房一邊走。

「或許從最開始,就沒人看好EUV光刻機,因為雖然理論上這能達到DUV光刻機的十倍解析度,但實在是太難了,難度太大,需要突破的瓶頸太多,對技術的需求極高,克服的難點數不勝數。」

一邊說著他還一邊打開了手環,形成了一個三維的全息投影簡單的介紹道

「大家都知道光刻機的本質就是曝光,DUV光刻機,我們還能找到對應的鏡片讓深紫外線通過,特別是後來安布雷拉的技術產出的新鏡片,更是加強了這一點,安布雷拉自己的光刻機就是利用了這一點彎道超車,在不使用浸潤法的情況下超過了我們的效率!」

阿斯麥沒有去貶低安布雷拉,甚至還可以說在旁邊吹噓。

因為隻有將安布雷拉的強大體現出來,才能說明他們更強!

這是一個強大的對手,但還是輸了,輸在了我們麵前!

「但,這一點對EUV光刻機卻是不行,我們使用的5n波長極紫外線電離能力極強,沒有鏡頭可以適合這種精度下讓這種高能光束通過,所以唯一可以選擇的辦法,隻有反射!」

一邊說著,全息圖像上也進行了改變,講解了一下大概的原理。

就是不斷利用一些鏡片的反射來完成對極紫外線的匯聚。

總共要完成十幾次的反射才能達到最後的曝光要求!

「這對於反射鏡片的精度需求可以說是極高的,要感謝卡爾蔡司公司在這方麵的付出。」

說完就對旁邊卡爾蔡司的工程師做出了一個請的手勢。