《半導體行業的革新產品出現》

《阿斯麥公司率先研發出EUV光刻機》

《芯片工藝製程或將提升十倍》

《芯片工藝已將達到物理極限》

在依然還有著‘魔力’‘外星生物’這些熱點的時候，阿斯麥的EUV光刻機在背後一群資本的運作下，立刻就登上了全球熱點。

本來正常來說，一件商品的更新迭代都是有跡可循的，或者說會有著技術儲備。

比如明明EUV光刻機是重新的新開賽道，和以前的DUV光刻機關係不大，但在平行世界這也硬是等到了芯片達到了DUV光刻機極限的7n瓶頸後才拿出來的。

但在這裏，因為安布雷拉DUV光刻機帶來的壓力，還有人工智能以及量子計算+超算的模式前景擺在這裏。

為了重新爭奪這尖端利潤，為了更美好的前景。

在如今最頂級的芯片工藝製程還是14n的時候，阿斯麥公司就端出了他們的EUV光刻機。

而且因為安布雷拉對鏡片領域的影響加持，還有其他各方麵技術帶來的競爭感。

阿斯麥這次提前拿出的EUV光刻機比原本計劃的各項技術參數，還要更加優秀！

某積電、四星、英特爾等晶圓廠都已經到貨，並開始組裝調試！

顯然阿斯麥的EUV光刻機並不是說剛剛才造出來的，是已經開始供貨讓他們加班加點的完成組裝後才開始官宣的。

為的就是一步到位，為的就是減少給競爭對手的反應時間！

EUV光刻機比DUV要大得多，重量180噸，甚至連運輸都需要專門的車輛，組裝起來也相當麻煩。

如果不是提前就已經為這些合作晶圓廠的工作人員進行了培訓，從頭開始的話安裝調試個大半年都是相當正常的。

而現在，在安布雷拉那邊的壓力下，不管是阿斯麥還是各大晶圓廠都拿出了自己的最大潛力，加班加點的全都聯動了起來。

在各路資本推波助瀾的炒作下，配合著這次對於安布雷拉新增的多項製裁，也一下讓很多人多緩過了神來。

這一次，恐怕針對的就是安布雷拉！

“好大的手筆！”

“之前覺得世界公司已經很冤了，但對比一下針對安布雷拉的才可怕！”

“世界公司隻是順帶被波及的，主要目標都放在安布雷拉這的，實在是他們身上的利益太大了。”

“阿斯麥好陰險啊，一直捂著不放，差不多一錘定音的時候就出來了。”

“……”

伴隨著網絡上的討論發酵，等到熱度達到峰值的時候，阿斯麥這邊也進行了一個直播節目。

同時有著某積電、四星、英特爾等諸多半導體工程師，還有一些芯片設計廠、封裝廠等等的專業人士。

站在一處廠房外，所有人臉上都是帶著笑容。

直播鏡頭前，由阿斯麥的工程師率先開口進行了介紹

“恐怕很多人都沒想到，我們會直接放棄原本成熟的DUV技術，直接從頭開始的研發EUV光刻機。”

一邊說，他們還圍繞著廠房一邊走。

“或許從最開始，就沒人看好EUV光刻機，因為雖然理論上這能達到DUV光刻機的十倍分辨率，但實在是太難了，難度太大，需要突破的瓶頸太多，對技術的需求極高，克服的難點數不勝數。”

一邊說著他還一邊打開了手環，形成了一個三維的全息投影簡單的介紹道

“大家都知道光刻機的本質就是曝光，DUV光刻機，我們還能找到對應的鏡片讓深紫外線通過，特別是後來安布雷拉的技術產出的新鏡片，更是加強了這一點，安布雷拉自己的光刻機就是利用了這一點彎道超車，在不使用浸潤法的情況下超過了我們的效率！”

阿斯麥沒有去貶低安布雷拉，甚至還可以說在旁邊吹噓。

因為隻有將安布雷拉的強大體現出來，才能說明他們更強！

這是一個強大的對手，但還是輸了，輸在了我們麵前！

“但，這一點對EUV光刻機卻是不行，我們使用的13.5n波長極紫外線電離能力極強，沒有鏡頭可以適合這種精度下讓這種高能光束通過，所以唯一可以選擇的辦法，隻有反射！”

一邊說著，全息圖像上也進行了改變，講解了一下大概的原理。

就是不斷利用一些鏡片的反射來完成對極紫外線的匯聚。

總共要完成十幾次的反射才能達到最後的曝光要求！

“這對於反射鏡片的精度需求可以說是極高的，要感謝卡爾蔡司公司在這方麵的付出。”